產(chǎn)品型號：

CPC-G

一、應用領域

等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。

二、設備特點

1. 7寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

2. PLC工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

3. 石英真空艙，真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

4. 采用質(zhì)量流量計，實現(xiàn)對氣體輸入控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準確問題。

5. HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

6. 60度傾角操作界面設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

7. 頂置真空艙，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關方式，開關蓋方便。

8. 采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

9. 上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設計，符合人體功能學，操作更方便。

10. 有效清洗面積大，可清洗*直徑8吋硅片。

11. 安全保護，艙門打開，自動關閉電源。

三、設備參數(shù)

1. 發(fā)生器頻率：40KHz

2. 功率：0-600 W無極可調(diào)

3. 匹配器：自動匹配

4. 激發(fā)方式：電容式

5. 氣體控制：質(zhì)量流量計（MFC）或雙浮子流量計

6. 艙體尺寸：H100×Φ269 mm

7. 艙體材質(zhì)：不銹鋼或石英玻璃

8. 艙體容積：5.6 L

9. 有效處理尺寸：L300×W215 mm

10. 時間設定：9999秒

11. 真空泵：抽速4 m3/h

12. 氣體穩(wěn)定時間：1分鐘

13. 真空度：100 pa以內(nèi)

14. 電源：AC220 V 50/60 Hz  752/302 W

15. 產(chǎn)品尺寸：L425×W480×H445 mm

16. 包裝尺寸：L550×W630×H700 mm

17. 整機重量：30 kg