產(chǎn)品型號(hào)：CPC-10Mplus

一、應(yīng)用領(lǐng)域

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。

二、設(shè)備特點(diǎn)

1. 7寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。

2. PLC工控機(jī)控制整個(gè)清洗過程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

3. 石英真空艙，真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

4. 采用質(zhì)量流量計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計(jì)控制氣體流量不準(zhǔn)確問題。 

5. HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

6. 60度傾角操作界面設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作方便，界面友好。

7. 頂置真空艙，上開蓋設(shè)計(jì)，下壓式鉸鏈開關(guān)方式，開關(guān)蓋方便。

8. 采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機(jī)單孔進(jìn)氣不均勻問題。

9. 上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作更方便。

10. 有效清洗面積大，可清洗*直徑8吋硅片。

11. 安全保護(hù)，艙門打開，自動(dòng)關(guān)閉電源。

三、設(shè)備參數(shù)

1. 發(fā)生器頻率：13.56MHz

2. 功率：0-300 W無極可調(diào)

3. 匹配器：自動(dòng)匹配

4. 激發(fā)方式：電容式

5. 氣體控制：質(zhì)量流量計(jì)（MFC）或雙浮子流量計(jì)

6. 艙體尺寸：L300×Φ215 mm

7. 艙體材質(zhì)：不銹鋼或石英玻璃

8. 艙體容積：10.8 L

9. 有效處理尺寸：L300×W215 mm

10. 時(shí)間設(shè)定：9999秒

11. 真空泵：抽速8 m3/h

12. 氣體穩(wěn)定時(shí)間：1分鐘

13. 真空度：100 pa以內(nèi)

14. 電源：AC220 V 50/60 Hz  766/466 W

15. 產(chǎn)品尺寸：L645×W550×H495 mm

16. 包裝尺寸：L750×W700×H720 mm

17. 整機(jī)重量：55 kg